芯耀
1876
在所有半導(dǎo)體制造工藝環(huán)節(jié)里，光刻工序往往是技術(shù)含量最高和最重要的。大家在研究光刻工藝時一般主要把關(guān)注點(diǎn)放在了光刻機(jī)和光刻膠等領(lǐng)域，其次時光刻膠配套試劑。而關(guān)于光刻掩模版的討論相對少很多
所以我這次特意整理了一下光刻掩模版及相關(guān)配套產(chǎn)品的供應(yīng)商信息，供大家參考
在以下表格中，如果大家發(fā)現(xiàn)任何問題，歡迎和我交流，謝謝了
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