芯耀
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以下是關(guān)于16NM芯片工藝和制程中用到的光刻機(jī)相關(guān)的詳細(xì)科普文章。
1.16NM芯片工藝的實(shí)現(xiàn)時(shí)間
16NM芯片工藝是在2014年實(shí)現(xiàn)的。它是指加工芯片平面上的最小線寬（距離）為16納米，在這個(gè)工藝下，集成電路可在同樣大小的芯片面積內(nèi)容納更多的晶體管，從而實(shí)現(xiàn)更高的性能、更低的功耗和更小的體積。具體實(shí)現(xiàn)方式需要依賴光刻機(jī)等設(shè)備完成。
2.16NM芯片用的光刻機(jī)
16NM芯片制造所需的光刻機(jī)種類相對(duì)比較多，主要包括ASML公司生產(chǎn)的i-line、KrF和ArF等光刻機(jī)系列，以及日本尼康、佳能（Canon）等公司的光刻機(jī)。
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