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CMOS工藝-STI（淺溝槽隔離）
學(xué)員問：能介紹STI工藝嗎？相比于LOCOS，STI工藝有哪些有點？什么是STI工藝？STI（Shallow Trench Isolation）淺溝槽隔離，先在硅片上刻蝕淺溝槽，然后填充氧化硅，形成電氣隔離層。主要作用是將CMOS的nMOSFET和pMOSFET隔離開，防止相互干擾。什么是LOCOS工藝？

TOM聊芯片智造

3939

2024/09/23

CMOS工藝
聊聊高壓CMOS工藝
高壓CMOS (HVCMOS) 是一種專門為處理高電壓應(yīng)用而設(shè)計的CMOS技術(shù)。HVCMOS技術(shù)因其能夠處理高壓且同時具備低壓CMOS電路的所有優(yōu)勢，使其在現(xiàn)代電子設(shè)備的各個領(lǐng)域中成為不可或缺的技術(shù)。無論是電源管理、汽車電子還是其他需要高壓處理的場景，HVCMOS都提供了一種高效、可靠的解決方案。

老虎說芯

2589

2024/09/03

CMOS CMOS工藝
不可忽視的閃爍噪聲
當(dāng)器件內(nèi)部，載流子在不連續(xù)的材料上移動時，會隨機的遭遇到捕獲和釋放，進而產(chǎn)生閃爍噪聲。比如，MOS管中柵極的氧化層與硅介質(zhì)層之間，就存在不連續(xù)性。

加油射頻工程師

2199

2023/05/08

MOS CMOS工藝
爍科中科信：離子注入機國產(chǎn)替代步伐提速
2020年6月15日，爍科中科信宣布，12英寸中束流離子注入機順利搬入集成電路大產(chǎn)線，此舉標(biāo)志著國產(chǎn)離子注入機市場化進程邁向新臺階

趙元闖

128

2020/06/19

國產(chǎn)替代離子注入機
萬業(yè)企業(yè)旗下凱世通：不走尋常路，全面發(fā)力集成電路核心裝備
CMOS工藝的發(fā)展極大推動了離子注入工藝的發(fā)展，也可以說離子注入工藝的不斷成熟進一步改善了集成電路產(chǎn)品的質(zhì)量，尤其是CMOS產(chǎn)品的性能。

趙元闖

195

2020/05/06

電路集成電路

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