EUV光刻機(jī)

據(jù)半導(dǎo)體業(yè)界3月11日?qǐng)?bào)道，據(jù)悉，三星電子本月初已將ASML生產(chǎn)的首臺(tái)高NA?EUV設(shè)備“EXE:5000”引進(jìn)華城園區(qū)。該設(shè)備價(jià)格昂貴，價(jià)值達(dá)5000億韓元（24.95億元人民幣），而且全球只有ASML公司供應(yīng)。

近日，芯片制造領(lǐng)域傳來(lái)重大消息：Rapidus開(kāi)始安裝ASML EUV光刻機(jī)，成為首家接收EUV光刻設(shè)備的日本半導(dǎo)體公司。這一舉措無(wú)疑在全球芯片產(chǎn)業(yè)中掀起了波瀾。

各大巨頭在未來(lái)仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開(kāi)激烈競(jìng)爭(zhēng)，爭(zhēng)相導(dǎo)入或宣布市場(chǎng)進(jìn)展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來(lái)新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對(duì)High-NA EUV光刻機(jī)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的關(guān)注與行動(dòng)。

雖然表面上看，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機(jī)依賴于波長(zhǎng)僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個(gè)非常難以控制的“燈泡”，但這個(gè)“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強(qiáng)大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會(huì)影響最終的成像效果。

ASML營(yíng)收額的增長(zhǎng)勢(shì)頭可能將迎來(lái)急剎車。荷蘭費(fèi)爾德霍芬時(shí)間10月15日，ASML發(fā)布2024年第三季度財(cái)報(bào)，財(cái)報(bào)顯示，2024年第三季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額74.67億歐元，環(huán)比增長(zhǎng)19.6%；凈利潤(rùn)達(dá)20.77億歐元，環(huán)比增長(zhǎng)31.6%，二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來(lái)的歷史新高。然而，該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元，環(huán)比減少52.7%，不及市場(chǎng)預(yù)期的54億歐元的一半，接近2021年第一季度以來(lái)的歷史低值（2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元）。