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晶圓Fab廠Photo工藝工程師

2024/07/11
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Fab中有很多道工序,cvd,pvd,photo,etch,wet,cmp,imp,diff,thermal等。photo(光刻)在晶圓制造的多個工藝中都會出現(xiàn),目前光刻機也是國產(chǎn)廠商還沒有突破的核心裝備之一。光刻工程師既要有扎實的理論知識,又要保持腦子清醒,同時具備嚴密的數(shù)據(jù)分析能力,才能把photo這道工藝調(diào)好。Photo工藝工程師一般向工藝主管匯報工作。

光刻工藝工程師的工作內(nèi)容舉例如下:

負責光刻工藝在線異常處理(合格、返工、報廢),獨立完成批量性異常的圍堵調(diào)查;

負責光刻設備的保養(yǎng)驗證,PE曝光機臺Focus Bandjing Overlay的檢查調(diào)整,勻膠顯影設備膠量、液量、EBR的測試跟蹤,烘箱、甩干機等設備顆粒測試監(jiān)控,機臺一致性數(shù)據(jù)收集監(jiān)控;

協(xié)助生產(chǎn)主管編制、修訂崗位工藝操作規(guī)范等控制文件,并監(jiān)督實施情況;負責檢查、指導生產(chǎn)車間7S工作的運營;負責新員工的培訓以及考核;負責生產(chǎn)現(xiàn)場巡檢,出現(xiàn)異常時,協(xié)調(diào)有關人員及時排解,并分析問題原因,提出糾正預防措施;

負責新產(chǎn)品光刻工藝研發(fā),跟蹤現(xiàn)場改善產(chǎn)品工藝;完成光刻曝光不同臺階覆蓋工藝原理研究,為產(chǎn)品設計提供窗口;

腐蝕驗證、腐蝕發(fā)霧改善,配合工程師數(shù)據(jù)收集,腐蝕侵蝕量收集,光刻異常勻膠不良分析改善和排查異常圍堵措施制定執(zhí)行;

光刻勻膠機程序編寫和曝光自動位信號查找,已經(jīng)新工藝開發(fā)研究項目經(jīng)驗;

負責PE自動化,實現(xiàn)PE曝光由手動對位到自動對位的轉(zhuǎn)變,降低人工成本;PE光刻版優(yōu)化,由玻璃版到優(yōu)化使用石英版,降低機偏返工率;劃傷專題,跟蹤改善操作習慣,降低人為劃傷返工率;SEZ腐蝕6寸裂紋降低,更換藍膜,提高裂紋率降低成本濺射臺雙靶材拓展三靶材驗證,通過效率和降低成本控制。

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器件型號 數(shù)量 器件廠商 器件描述 數(shù)據(jù)手冊 ECAD模型 風險等級 參考價格 更多信息
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