EUV光刻機

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極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。收起

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  • 30億EUV光刻機搬入！
    據(jù)半導(dǎo)體業(yè)界3月11日報道，據(jù)悉，三星電子本月初已將ASML生產(chǎn)的首臺高NA?EUV設(shè)備“EXE:5000”引進華城園區(qū)。該設(shè)備價格昂貴，價值達5000億韓元（24.95億元人民幣），而且全球只有ASML公司供應(yīng)。
    30億EUV光刻機搬入！
  • 日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
    近日，芯片制造領(lǐng)域傳來重大消息：Rapidus開始安裝ASML EUV光刻機，成為首家接收EUV光刻設(shè)備的日本半導(dǎo)體公司。這一舉措無疑在全球芯片產(chǎn)業(yè)中掀起了波瀾。
    日本成功引入首臺ASML EUV光刻機
  • 深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設(shè)備展開激烈競爭，爭相導(dǎo)入或宣布市場進展，預(yù)示著半導(dǎo)體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。
    深度丨EUV光刻機巨頭風(fēng)云爭奪戰(zhàn)
  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    雖然表面上看，光刻機是半導(dǎo)體制造的工具之一，但它的背后涉及復(fù)雜的多學(xué)科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
    為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
  • ASML業(yè)績“暴雷”
    ASML營收額的增長勢頭可能將迎來急剎車。荷蘭費爾德霍芬時間10月15日，ASML發(fā)布2024年第三季度財報，財報顯示，2024年第三季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額74.67億歐元，環(huán)比增長19.6%；凈利潤達20.77億歐元，環(huán)比增長31.6%，二者均創(chuàng)下自2021年第一季度以來的歷史新高。然而，該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元，環(huán)比減少52.7%，不及市場預(yù)期的54億歐元的一半，接近2021年第一季度以來的歷史低值（2023年第三季度新增訂單金額26.02億歐元）。
    ASML業(yè)績“暴雷”
  • ASML發(fā)布2024年第三季度財報 | 凈銷售額75億歐元，凈利潤為21億歐元
    阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第三季度財報。2024年第三季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額75億歐元，毛利率為50.8%，凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2，其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預(yù)計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間，毛利率介于49%到50%，2024年全年的凈銷售額約為280億歐元。ASML還預(yù)計，2025年的凈銷售額在300億至
    ASML發(fā)布2024年第三季度財報 | 凈銷售額75億歐元，凈利潤為21億歐元
  • 日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
    8月7日消息，近日日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)（OIST）的Tsumoru Shintake教授帶領(lǐng)的研究團隊提出了一項全新、大幅簡化的面向極紫外（EUV）光刻機的雙反射鏡系統(tǒng)。相比傳統(tǒng)的至少需要六面反射鏡的配置，新的光學(xué)投影系統(tǒng)僅使用了兩面反射鏡，在確保系統(tǒng)維持較高的光學(xué)性能的同時，能讓EUV光線以超過初始值10%的功率到達晶圓，相比傳統(tǒng)系統(tǒng)中僅1%的功率來說，提了高到了原來的10倍，可說是一大突破。
    日本提出EUV光刻新方案：光源功率可降低10倍，成本將大幅降低！
  • 從EUV光刻機到你的牙齒：悄然發(fā)力的中國3D打印
    從2納米到40微米，從光刻機到人的牙齒，有著怎樣的關(guān)系？在小紅書上，有一批“網(wǎng)紅”正在爭相試用一款操作起來“像做美甲一樣便捷”的牙齒貼面產(chǎn)品。
    從EUV光刻機到你的牙齒：悄然發(fā)力的中國3D打印
  • ASML的EUV光刻機型號匯總
    上期文章中，我們列舉了ASML的G線，i線光刻機型號，見文章：ASML的光刻機型號匯總(上)本期，我們要羅列下ASML的EUV光刻機的型號及主要技術(shù)參數(shù)。
    ASML的EUV光刻機型號匯總
  • EUV光刻機有多牛？
    華為的麒麟990系列芯片、蘋果手機的A14處理器（5納米工藝）以及M1處理器以及三星的Exynos 9825處理器都是用EUV光刻機生產(chǎn)出來的。換句話說，7納米以下的芯片，沒有EUV光刻機造不出來！
  • 近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了
    7月17日，全球最大的光刻設(shè)備廠商阿斯麥（ASML）公布2024年第二季度業(yè)績。根據(jù)數(shù)據(jù)，ASML Q2總凈銷售額 62.43億歐元（約491億元人民幣），凈利潤為15.78億歐元，毛利率 51.5%，第二季度凈預(yù)訂量為55.67億歐元，其中25億歐元為EUV預(yù)訂額。不過相比去年同期的營收69億歐元、凈利潤19.4億歐元，ASML今年第二季度業(yè)績不及當時水平。
    近500億元！EUV光刻機巨頭掙翻了
  • 存儲市場吹響EUV光刻機集結(jié)號
    AI浪潮下，存儲市場DRAM芯片正朝著更小、更快、更好的方向發(fā)展，EUV光刻機擔(dān)當重任。三大DRAM原廠中有兩家已經(jīng)引進EUV光刻機生產(chǎn)DRAM芯片，美光相對保守，不過也于今年將在1γ（1-gamma）制程進行EUV技術(shù)試產(chǎn)，三大原廠集結(jié)，存儲市場EUV光刻機時代開啟。
    存儲市場吹響EUV光刻機集結(jié)號
  • 晶圓代工廠“頭疼”？阿斯麥Hyper-NA EUV售價或超7.24億美元
    近日，據(jù)朝鮮日報報道，阿斯麥（ASML）將針對1納米以下制程，計劃在2030年推出更先進Hyper-NA EUV光刻機設(shè)備，但可能超過7.24億美元一臺的售價會讓臺積電、三星、英特爾等半導(dǎo)體晶圓代工廠商望而卻步。
    晶圓代工廠“頭疼”？阿斯麥Hyper-NA EUV售價或超7.24億美元
  • EUV光刻機變數(shù)陡增
    最近，關(guān)于EUV光刻機，又有勁爆消息傳出。據(jù)外媒報道，有消息人士透露，由于美國施壓，ASML向荷蘭政府官員保證，在特殊情況下，該公司有能力遠程癱瘓（remotely disable）臺積電使用的EUV光刻機。知情人士稱，ASML擁有“鎖死開關(guān)”（kill switch），可以遠端強制關(guān)閉EUV。
    EUV光刻機變數(shù)陡增
  • ASML最先進的光刻機，花落誰家？
    4月上旬，全球光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布了其最新一代極紫外線(EUV)光刻設(shè)備Twinscan NXE:3800E，該工具投影透鏡擁有0.33的數(shù)值孔徑，旨在滿足未來幾年對于尖端技術(shù)芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸節(jié)點。ASML還計劃進一步推出另一代低數(shù)值孔徑(EUV)掃描儀Twinscan NXE:4000F，預(yù)計將于2026年左右發(fā)布。
    ASML最先進的光刻機，花落誰家？

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