IC制造

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  • 通道阻絕植入(Channel Stop)詳解
    在現(xiàn)代集成電路(IC)的制造中,電晶體(如MOSFET)是芯片的核心元件。每個電晶體需要在晶圓上彼此隔離,以防止其相互之間的不必要干擾。這種隔離通常通過以下兩種方式實(shí)現(xiàn):
    通道阻絕植入(Channel Stop)詳解
  • 缺陷密度(Defect Density)詳解:從概念到實(shí)際應(yīng)用
    在集成電路(IC)制造中,“缺陷密度”(Defect Density)是一個關(guān)鍵指標(biāo),用于評估晶圓制造工藝的成熟度和產(chǎn)品質(zhì)量。它代表了單位面積晶圓上產(chǎn)生的缺陷數(shù)量,直接關(guān)系到最終芯片的良率和可靠性。
    缺陷密度(Defect Density)詳解:從概念到實(shí)際應(yīng)用
  • IC制造與生態(tài)發(fā)展論壇落幕:匯聚IC制造最新趨勢
    IC制造是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重中之重。2024年5月24日,一年一度的IC制造與生態(tài)發(fā)展論壇在廣州知識城國際會展中心舉行。在IC制造與生態(tài)發(fā)展論壇上,來自多家IC制造產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)企業(yè)的重量級嘉賓帶來了關(guān)于最新技術(shù)成果和發(fā)展方向的精彩演講。與非網(wǎng)記者也受邀全程參與了此次盛會,并帶來相關(guān)演講報(bào)道。
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    2024/06/13
    IC制造與生態(tài)發(fā)展論壇落幕:匯聚IC制造最新趨勢

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