射頻電源的頻率與等離子體能量，密度的關(guān)系？

知識星球（星球名：芯片制造與封測技術(shù)社區(qū)，星球號：63559049）里的學(xué)員問：等離子刻蝕機臺的頻率有13.56MHz，2.45GHz等，頻率的大小的不同會對造成什么影響？該怎么選用。

射頻電源的作用？

射頻電源主要用于PECVD、HDPCVD、PEALD、干法刻蝕、去膠、PVD、干法清洗等設(shè)備中，起到激發(fā)等 離子體、選擇刻蝕方向等作用。

射頻電源有哪些常見頻率？

13.56MHz，2.45GHz，40-100KHz，2MHz其中，13.56MHz是半導(dǎo)體設(shè)備最常見的頻率。

頻率與離子能量，密度的關(guān)系？

如圖所示：頻率越高，離子能量一般越低，密度越大；頻率越低，離子能量一般越高，密度越小。

歡迎加入我的半導(dǎo)體制造知識星球社區(qū)，目前社區(qū)有1700人左右，是國內(nèi)最大的半導(dǎo)體制造學(xué)習(xí)平臺。在這里會針對學(xué)員問題答疑解惑，上千個半導(dǎo)體行業(yè)資料共享，內(nèi)容比文章豐富很多很多，適合快速提升半導(dǎo)體制造能力，介紹如下：? ? ? 《歡迎加入作者的芯片知識社區(qū)！》