南大光電：ArF光刻膠已拿到小批量訂單

與非網(wǎng)7月5日訊 國內(nèi)半導體材料廠商南大光電在互動平臺上表示，公司旗下的ArF光刻膠產(chǎn)品拿到小批量訂單，不過他們沒有透露具體的客戶名單。

今年5月份，南大光電發(fā)表公告，控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業(yè)的50nm閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業(yè)55nm技術(shù)節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認證突破，表明公司光刻膠產(chǎn)品已具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。

在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在襯底上，經(jīng)過曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，形成與掩膜版完全對應的幾何圖形。

當前，市面上的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四種，ArF光刻膠是其中最高階的產(chǎn)品，其產(chǎn)品應用的工藝跨度較廣，不管是高端的7nm，還是14nm，乃至90nm技術(shù)節(jié)點的芯片制造都需要用到這款材料。而全球光刻膠市場主要被JSR、信越化學等歐美日等國的企業(yè)所“瓜分”。

值得注意的是，在南大光電順利推出ArF光刻膠產(chǎn)品之后，越來越多投資機構(gòu)也注意到了南大光電這家企業(yè)。就在7月1日，財信證券還對這家企業(yè)給予推薦評級。截至7月2日收盤，南大光電報收36.52元/股。

此前南大光電曾在公告中表示，ArF光刻膠涵蓋的工藝技術(shù)很廣，可用于90nm-14nm甚至7nm 技術(shù)節(jié)點制造工藝，廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 存儲芯片、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等）。

根據(jù)南大光電此前公告，ArF 光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內(nèi) IC 行業(yè)的快速發(fā)展，自主創(chuàng)新和國產(chǎn)化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。

早期因為光刻膠被壟斷，我國ArF的供給率都達不到5%，關(guān)于g線和i線的自給率都達不到20%，好在南大光電現(xiàn)在已經(jīng)成功突破了技術(shù)屏障，生產(chǎn)出了符合高端芯片的ArF光刻膠。

在技術(shù)屏障被打破的同時，也要打開市場，否則技術(shù)不能變現(xiàn)，對于一個企業(yè)來說沒有任何作用，而現(xiàn)在南大光電不僅突破了技術(shù)屏障，更是已經(jīng)實現(xiàn)了訂單的突破，證明了一件事情，證明了我國光刻機行業(yè)的可持續(xù)發(fā)展，并且告別了光刻機壟斷的局面！

訂單開始之后，將向世界證明中國光刻膠的技術(shù)實力，讓世界知道我們光刻膠已經(jīng)在逐步崛起！