寬帶隙半導(dǎo)體指的是能帶寬度大于 2電子伏特(eV)的半導(dǎo)體材料。這種材料因?yàn)榫邆浔瘸R姷墓?Si)和鍺(Ge)等材料更大的電子運(yùn)動(dòng)性能,在高功率器件、發(fā)光二極管和太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。
1.什么是寬帶隙半導(dǎo)體
寬帶隙半導(dǎo)體相較于窄帶隙半導(dǎo)體,其狹義的定義為在溫度為 0K 時(shí)能帶寬度大于 2eV 的半導(dǎo)體。
因此,寬帶隙半導(dǎo)體主要包括:氮化鎵 (GaN)、碳化硅 (SiC)、氧化鋅 (ZnO) 等材料。
2.寬帶隙半導(dǎo)體材料有哪些
現(xiàn)代電子學(xué)中,廣泛采用的寬帶隙半導(dǎo)體材料包括:
- GaN(氮化鎵):應(yīng)用于耐壓電力設(shè)備、高頻控制器以及藍(lán)光LED等領(lǐng)域。
- SiC(碳化硅):應(yīng)用于汽車配件、太陽(yáng)能電池和發(fā)電機(jī)技術(shù)等領(lǐng)域。
- ZnO(氧化鋅):應(yīng)用于透明導(dǎo)電薄膜、激光二極管以及光電子器件等領(lǐng)域。
閱讀全文