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?市場規(guī)模接近全球六成，我國平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板
掩膜版又稱光罩、光掩膜，是光刻工藝中的關(guān)鍵耗材，從應(yīng)用角度看，主要分為半導(dǎo)體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進一步向中國轉(zhuǎn)移，以及在高世代、高精度市場需求的帶動下，2025年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比有望超過60%。不過業(yè)內(nèi)人士強調(diào)，盡管我國掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快，但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況，關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍被掣肘。

中國電子報

2464

2024/01/04

光掩膜版光掩膜
凸版印刷分拆成立半導(dǎo)體光掩膜公司
近日，全球最大的獨立第三方光掩膜生產(chǎn)商日本凸版印刷株式會社宣布分拆旗下半導(dǎo)體光掩膜業(yè)務(wù)，并與投資基金 INTEGRAL合資成立一家新公司“Toppan Photomask ”。

中國電子報

266

2022/04/08

半導(dǎo)體光掩膜
AGC | 將擴產(chǎn)EUV光掩模坯，2024年達目前產(chǎn)能2倍
AGC株式會社旗下子公司AGC電子株式會社，決定擴大用于EUV曝光的光掩膜坯產(chǎn)能。且宣布該計劃自2023年1月起開始生產(chǎn)，并將按計劃逐步擴產(chǎn)，到2024年AGC集團的EUV光掩模坯產(chǎn)能將達到現(xiàn)在的兩倍。

CINNO Research

198

2022/02/08

EUV 光掩膜
DNP成功研發(fā)5nm EUV光掩膜工藝，為半導(dǎo)體不斷細微化提供可靠支撐
大日本印刷株式會社利用多電子光束繪制設(shè)備，研發(fā)了光掩膜的生產(chǎn)工藝，不僅可用于當(dāng)下最先進的 EUV 光刻，還可用于 5 納米工藝。

CINNO Research

230

2020/08/31

5nm 硅晶圓
格芯再次賣廠，這次是光掩膜相關(guān)業(yè)務(wù)
與非網(wǎng)8月14日訊，格芯（GlobalFoundries）宣布將旗下的光掩膜業(yè)務(wù)出售給日本Toppan公司的子公司Toppan Photomasks，這是格芯近年來出售多座晶圓廠之后再一次出售相關(guān)業(yè)務(wù)。

與非網(wǎng)記者

42

2019/08/14

晶圓廠格芯

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