半導(dǎo)體工藝的極限:1nm之戰(zhàn)
從7nm到5nm,從5nm到3nm,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于先進(jìn)工藝制程的追求永不停歇。2022年,當(dāng)臺(tái)積電宣布已經(jīng)掌握成功大量量產(chǎn)3nm鰭式場(chǎng)效電晶體制程技術(shù)后,1nm開始一步步逼近。對(duì)于先進(jìn)工藝的掌握,意味著更高的性能、更頂尖的技術(shù)。從 3nm跨越到1nm,這其中面臨的技術(shù)挑戰(zhàn)猶如天塹。因此,1nm對(duì)于業(yè)界來(lái)說(shuō)也充滿著誘惑。