光刻膠｜三星與東進半導體合作成功開發(fā)出EUV光刻膠

CINNO Research產(chǎn)業(yè)資訊，東進世美肯（Dongjin Semichem）與三星電子合作，成功開發(fā)出半導體超細微工藝必備材料--極紫外線(EUV)光刻膠(PR)。EUV PR是2019年日本對韓出口管制的三大品種之一。技術(shù)難度高，全部依靠國外進口的產(chǎn)品，通過韓國企業(yè)間的相互合作成功實現(xiàn)了國產(chǎn)化。

東進世美肯華城園區(qū)鳥瞰圖

據(jù)悉，東進世美肯最近通過了三星電子EUV 光刻膠從信賴性測試（品質(zhì)認證）。對此比較了解的業(yè)界相關(guān)人士表示：“東進世美肯在京畿道華城工廠開發(fā)出了EUV光刻膠，在三星電子華城EUV產(chǎn)線上進行了測試，最終獲得了品質(zhì)認證”，并稱“通過雙方的合作，可以迅速開發(fā)具有高技術(shù)水平的EUV 光刻膠”。

光刻膠（PR）也被稱為感光液，是半導體曝光工藝的核心材料。由光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、樹脂、單體、溶劑和其他助劑組成，又稱光致抗蝕劑。光刻膠可以通過光化學反應(yīng)，通過曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰涛g的細微圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工硅基片上。光刻膠的作用，除了提高加工精度，它還可以保護硅基材免受腐蝕，阻止離子影響。

在韓國，目前氟化氪(KrF)和氟化氬（ArF）工藝用光刻膠已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)，但能繪制更細微電路的EUV用光刻膠卻一直未開發(fā)成功。因為開發(fā)難度很大，韓國使用的EUV光刻膠大部分都是從日本進口的。

2019年，東進世美肯公司在日本實行對韓出口管制后加快了EUV光刻膠的開發(fā)步伐。利用現(xiàn)有的氟化氬曝光機等自身的基礎(chǔ)設(shè)施，以及比利時半導體研究所的IMEC EUV設(shè)備等，開始致力于實現(xiàn)EUV 光刻膠韓國國產(chǎn)化開發(fā)。今年年初，公司充實了EUV光刻膠領(lǐng)域的專業(yè)人才，加快了技術(shù)開發(fā)的步伐。再加上三星電子積極支持EUV測試環(huán)境，實現(xiàn)了現(xiàn)場可利用的質(zhì)量高度化。業(yè)界相關(guān)人士評價稱：“僅用2年的時間成功開發(fā)EUV光刻膠本身就相當困難”，“(通過EUV 光刻膠品質(zhì)認證)是在三星電子合作支持下取得成果”。

EUV曝光機工作原理

三星電子是否會立即將東進世美肯的EUV光刻膠投入半導體生產(chǎn)線還是未知數(shù)。通常通過質(zhì)量認證后就投入量產(chǎn)線。因此部分人預測最早明年上半年存在向三星電子供應(yīng)的可能性。

對于通過EUV光刻膠質(zhì)量認證，三星電子和東進世美肯方面均諱莫如深。三星電子相關(guān)人士表示：“無法確認與合作公司的質(zhì)量認證”，并稱“將為推動半導體材料、零部件、裝備多樣化而持續(xù)努力”。

東進世美肯EUV光刻膠相關(guān)主要日程