芯耀
584
PN結隔離是一種常用的集成電路制造工藝。它通過在不同區(qū)域形成PN結，將芯片內部的器件與其他器件或無源區(qū)分開來，從而提高器件等參數。
1.PN結隔離應用于多少微米
PN結隔離可以應用于不同的微米級別，從幾微米到數百微米不等。其具體應用需根據芯片尺寸、工藝技術以及器件需求來確定。例如，在模擬信號電路和低功耗數字電路中，通常使用幾十微米到數百微米的PN結隔離。
2.PN結隔離和氧化物隔離的區(qū)別
與PN結隔離相比，氧化物隔離（LOCOS）可提供更高的絕緣性能和更窄的區(qū)域間距。但是，由于氧化物隔離的缺陷密度更高，可能會導致器件性能下降。此外，PN結隔離的制造成本較低，因為它可以通過與器件一起形成。
閱讀全文
