槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常
如果你要問(wèn),槽式清洗硅片轉(zhuǎn)速多少正常?如此看起來(lái)你是慢慢研究深入了,開(kāi)始入門(mén)了。畢竟這個(gè)是細(xì)節(jié)深入的問(wèn)題,對(duì)于答案來(lái)說(shuō),并非如此簡(jiǎn)單。因?yàn)椴凼角逑垂杵霓D(zhuǎn)速取決于多種因素,如清洗方式、化學(xué)品種類、晶圓尺寸以及清洗的具體目標(biāo)等。 簡(jiǎn)單的一句話,一定不足以能讓大家滿意,為此下面我們給大家準(zhǔn)備了一些常見(jiàn)的轉(zhuǎn)速范圍及其適用情況: 低速旋轉(zhuǎn)(100-300 RPM):在潤(rùn)濕步驟中,液體從噴嘴噴出,而盤(pán)片以相