PEEK與PPS注塑CMP固定環(huán)的性能對比與工藝優(yōu)化
在半導體制造工藝中,化學機械拋光(CMP)是實現(xiàn)晶圓表面全局平坦化的關鍵技術,而CMP固定環(huán)(保持環(huán))作為拋光頭的核心易耗部件,其性能影響著晶圓加工的良率和生產效率。隨著半導體技術向更小制程節(jié)點發(fā)展,對CMP固定環(huán)的材料性能要求日益嚴苛,聚醚醚酮(PEEK)和聚苯硫醚(PPS)作為兩種高性能工程塑料,通過注塑成型工藝制造的CMP固定環(huán)正逐步成為半導體制造領域的關鍵部件。 一、PEEK與PPS注塑成