DUV

• 光刻工藝中g(shù)線、i線、DUV、EUV是什么意思？

  不同波長(zhǎng)的光源各自對(duì)應(yīng)不同的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和制造需求。從早期的 g線、i線到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV，每一次升級(jí)都展現(xiàn)了更高分辨率和更先進(jìn)的工藝水平。隨著對(duì)器件尺寸不斷逼近物理極限，EUV及其后續(xù)升級(jí)版本將持續(xù)發(fā)展。

  老虎說(shuō)芯

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  03/20 12:20

  EUV 光刻技術(shù)

  
• 半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)屢創(chuàng)新高，ASML揭秘背后四大增長(zhǎng)動(dòng)力！

  近期，全球光刻機(jī)大廠ASML在“2024 Investor Day Meeting”（2024投資者日）活動(dòng)上，對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了分享，剖析了推動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的持續(xù)增長(zhǎng)的四大關(guān)鍵驅(qū)動(dòng)力：AI服務(wù)器市場(chǎng)的持續(xù)增長(zhǎng)（對(duì)于先進(jìn)制程的需求）、成熟制程市場(chǎng)的持續(xù)擴(kuò)張、前端3D集成的趨勢(shì)、先進(jìn)封裝市場(chǎng)的旺盛需求。

  芯智訊

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  01/10 14:22

  半導(dǎo)體設(shè)備 先進(jìn)封裝

  
• 美國(guó)施壓之下，荷蘭將禁止ASML對(duì)在華高端DUV設(shè)備維護(hù)？

  8月29日消息，最新的業(yè)內(nèi)消息顯示，荷蘭政府計(jì)劃限制ASML在中國(guó)維修半導(dǎo)體設(shè)備的能力，這或?qū)?duì)于中國(guó)提升先進(jìn)制程制造能力的努力造成打擊。據(jù)熟悉內(nèi)情的人士透露，在ASML某些在中國(guó)提供服務(wù)和備件的許可證于今年年底到期后，荷蘭首相迪克·肖夫政府很可能不再為其續(xù)期。這一決定預(yù)計(jì)將涉及該公司的高端深紫外光刻（DUV）設(shè)備。

  芯智訊

  1845

  2024/08/30

  半導(dǎo)體設(shè)備 ASML

  
• ASML的DUV光刻機(jī)型號(hào)匯總

  前兩期的文章中我們介紹了ASML的G線，i線，EUV光刻機(jī)的型號(hào)，見(jiàn)文章：ASML的光刻機(jī)型號(hào)匯總(上)ASML的EUV光刻機(jī)型號(hào)匯總。今天我們來(lái)介紹一下，ASML的DUV光刻機(jī)的型號(hào)。

  TOM聊芯片智造

  1.2萬(wàn)

  2024/07/29

  光刻機(jī) DUV

  
• 三大產(chǎn)品線全力升級(jí) 東方晶源引領(lǐng)國(guó)內(nèi)電子束量測(cè)檢測(cè)發(fā)展

  電子束量檢測(cè)是半導(dǎo)體量檢測(cè)領(lǐng)域的主要技術(shù)類(lèi)型之一，在半導(dǎo)體制程不斷微縮，光學(xué)檢測(cè)對(duì)先進(jìn)工藝圖像識(shí)別的靈敏度逐漸減弱的情況下，發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。電子束量檢測(cè)設(shè)備對(duì)于檢測(cè)的精度、可適用性、穩(wěn)定性、吞吐量等要求很高，其研發(fā)和設(shè)計(jì)非常具有技術(shù)挑戰(zhàn)性。 作為布局該領(lǐng)域最早的國(guó)內(nèi)企業(yè)之一，東方晶源已先后成功推出電子束缺陷檢測(cè)設(shè)備EBI，關(guān)鍵尺寸量測(cè)設(shè)備CD-SEM（12英寸和6&8英寸），電子束

  與非網(wǎng)編輯

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  2024/06/26

  半導(dǎo)體 ADC

  

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