光刻機(jī)

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光刻機(jī)(lithography)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

光刻機(jī)(lithography)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。收起

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    近日,一些媒體報(bào)道了英國部署電子束光刻機(jī)相關(guān)的新聞,并號稱打破ASML的EUV技術(shù)壟斷。部分報(bào)道甚至號稱這是全球第二臺電子束光刻機(jī),能繞過ASML。實(shí)際上當(dāng)前沒有任何信息表面該電子束曝光機(jī)可以用于5nm制程的芯片量產(chǎn)的光刻環(huán)節(jié)。在這些媒體的報(bào)道中,英國似乎已經(jīng)拳打ASML,腳踢EUV了。那事實(shí)真的如此嗎?實(shí)際情況到底如何呢?
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