光刻機

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光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。收起

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  • 春招進行時，ASML最新人才戰(zhàn)略解析
    對于此次春季招聘會，ASML中國區(qū)人力資源總經(jīng)理毛琴表示：“春季招聘會是從去年開始啟動的，主要是為了滿足ASML中國對人才的增長需求。目前公司在中國的員工數(shù)已達1900余名，對比過去5年的員工數(shù)量，已經(jīng)實現(xiàn)幾乎翻番。今年，ASML將繼續(xù)面向社會和高校開放多種類型的崗位，涵蓋支持工程師、軟件工程師、開發(fā)工程師、工藝工程師、維修等技術(shù)崗位，以及采購和服務等職能崗位?！?/div>
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    04/16 19:10
    春招進行時，ASML最新人才戰(zhàn)略解析
  • ASML、NIKON、CANON光刻機型號數(shù)據(jù)匯總（2025版）
    今天整理一個簡易版（省略部分過于專業(yè)的參數(shù)指標）的光刻機型號匯總，供大家參考完整數(shù)據(jù)的原始EXCEL表格文件，我已經(jīng)放到了知識星球的云盤上供會員使用。
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    03/07 15:31
    ASML、NIKON、CANON光刻機型號數(shù)據(jù)匯總（2025版）
  • 如何提高光刻機的NA值？
    學員問：為什么光刻機希望有更好的NA值，為什么？怎樣提高？什么是NA值？如上圖是Asml PAS5000型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名數(shù)值孔徑，是影響分辨率(R)，焦深（DOF）的重要參數(shù)，公式為
  • ASML，今年賣了多少光刻機？
    今年，ASML的High NA EUV光刻機成為設備新晉“頂流”。其數(shù)值孔徑（NA）從之前標準 EUV 光刻機的 0.33 提升到了 0.55 ，鏡頭的分辨率從之前的13 nm提升到了 8 nm，能夠?qū)崿F(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)。英特爾、臺積電、三星哪怕豪侈巨資也要拿下。
    ASML，今年賣了多少光刻機？
  • 深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
    各大巨頭在未來仍將圍繞High-NA EUV設備展開激烈競爭，爭相導入或宣布市場進展，預示著半導體行業(yè)將迎來新一輪技術(shù)革新。目前，英特爾、臺積電、三星、SK海力士等晶圓制造大廠已紛紛對High-NA EUV光刻機表現(xiàn)出強烈的關(guān)注與行動。
    深度丨EUV光刻機巨頭風云爭奪戰(zhàn)
  • 無掩膜光刻機，微納加工的下一個答案？
    第十四屆中國國際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會（簡稱“納博會”）在萬眾矚目中圓滿落下了帷幕。這場全球納米科技領(lǐng)域盛會，以1場主報告、13場分論壇、1場創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)大賽，1場新產(chǎn)品發(fā)布會為主，匯聚了全球納米科技領(lǐng)域的18位院士，450多位高校研究院所、上市公司、知名企業(yè)機構(gòu)的頂級專家代表出席，分享專業(yè)報告476場，較往屆增加132場，同比增長約33%，吸引9663位嘉賓參會聽會。
    無掩膜光刻機，微納加工的下一個答案？
  • 整整185種！ASML、NIKON、CANON御三家光刻機型號大全
    在所有半導體設備里，光刻機確實是一個最有話題熱度的門類了。我之前從ASML、NIKON、CANON三家的官網(wǎng)上下載收錄了他們目前銷售的光刻機型號，并匯總做成表格供大家參考，讀者反饋不錯。更有行業(yè)大佬寫文章時引用我的數(shù)據(jù)后更是給我的公眾號帶來一波巨大流量。
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    2評論
    2024/10/31
    整整185種！ASML、NIKON、CANON御三家光刻機型號大全
  • 全球光刻機市場競爭加劇，ASML財報引發(fā)關(guān)注
    近日，ASML發(fā)布最新三季度財報后，股價創(chuàng)26年來最大跌幅引起市場極大關(guān)注。在此期間，尼康和佳能陸續(xù)發(fā)布的光刻機研發(fā)最新進展也引起行業(yè)聚焦。
    全球光刻機市場競爭加劇，ASML財報引發(fā)關(guān)注
  • 為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
    雖然表面上看，光刻機是半導體制造的工具之一，但它的背后涉及復雜的多學科交叉與全球化合作。EUV光刻機依賴于波長僅為13.5納米的極端紫外線（EUV）光源，而這種光源的產(chǎn)生與控制是最大的技術(shù)挑戰(zhàn)之一。你可以把EUV光源想象成一個非常難以控制的“燈泡”，但這個“燈泡”不僅需要在超高真空環(huán)境下工作，還必須產(chǎn)生極其穩(wěn)定和強大的光束。任何微小的不穩(wěn)定都會影響最終的成像效果。
    為什么研發(fā)EUV光刻機那么難？
  • ASML阿斯麥業(yè)績“爆雷”，影響會波及多大？芯片需求真飽和了？
    日前，荷蘭光刻機企業(yè)阿斯麥公布業(yè)績“爆雷”，當日股價大跌16.26%，創(chuàng)近26年來最大單日跌幅，拖累美股芯片股集體下挫，包括英偉達、AMD、英特爾等半導體企業(yè)都出現(xiàn)不同幅度的下跌。據(jù)悉，阿斯麥第三季度的訂單量僅達到分析師預期的一半左右，并下調(diào)了2025年的業(yè)績指引。
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    2024/10/17
    ASML阿斯麥業(yè)績“爆雷”，影響會波及多大？芯片需求真飽和了？
  • 2024 CSEAC：半導體設備國產(chǎn)化加速，競爭力在哪里？
    尊重知識產(chǎn)權(quán)和打造差異化競爭優(yōu)勢是中國半導體產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展的關(guān)鍵。當前，低價競爭導致的低毛利已成為行業(yè)發(fā)展的主要障礙，它削弱了設備企業(yè)的研發(fā)能力，阻礙了技術(shù)的迭代升級。半導體設備廠商需要維持40%-50%的毛利潤率，以確保持續(xù)的研發(fā)投入和技術(shù)創(chuàng)新。非法的設備翻新和抄襲行為不僅侵犯了知識產(chǎn)權(quán)，也不利于企業(yè)的長期發(fā)展。
    2024 CSEAC：半導體設備國產(chǎn)化加速，競爭力在哪里？
  • 納米壓印，中國企業(yè)有哪些？
    歡迎關(guān)注硬科技的投資人和創(chuàng)業(yè)者加入“創(chuàng)道硬科技”平臺，微信riseen001
  • 聊聊國內(nèi)首臺重大技術(shù)裝備（2）
    上次，介紹了《首臺（套）重大技術(shù)裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》中介紹的硅外延爐，濕法清洗機，氧化爐，見文章：《聊聊國內(nèi)首臺重大技術(shù)裝備（1）》 這次來解讀一下目錄中提到的勻膠顯影機，光刻機及離子注入機。
  • 聊聊光刻機的原理、現(xiàn)狀與未來
    光刻機是半導體制造過程中的關(guān)鍵設備，相當于芯片制造工藝的“印刷機”，它的精度直接影響芯片的制程和性能。根據(jù)不同光源類型，光刻機可以分為UV（紫外線）、DUV（深紫外線）和EUV（極紫外線）三大類。光刻機的分辨率主要由兩個參數(shù)決定：光源的波長（λ）和物鏡系統(tǒng)的數(shù)值孔徑（NA）。簡單來說，波長越短、數(shù)值孔徑越大，光刻機的分辨率就越高。
    聊聊光刻機的原理、現(xiàn)狀與未來
  • 特種玻璃巨頭肖特發(fā)力半導體業(yè)務，新材料基板成為下一代芯片突破口
    全球高科技特種材料領(lǐng)軍企業(yè)肖特集團（SCHOTT AG）于9月12日舉辦媒體招待會，在第七屆進博會舉辦倒數(shù)50天之際，向中國市場更深入地介紹半導體行業(yè)特種玻璃材料的應用范圍、技術(shù)優(yōu)勢、市場前景以及在中國的布局和發(fā)展。 隨著人工智能、大數(shù)據(jù)等前沿領(lǐng)域的快速發(fā)展，各行各業(yè)對芯片的算力、帶寬、互連密度提出了越來越高的要求。同時，未來芯片設計與制造還需要應對耗能極高的挑戰(zhàn)。然而，芯片制造越來越受限于物理定
    特種玻璃巨頭肖特發(fā)力半導體業(yè)務，新材料基板成為下一代芯片突破口
  • 大型科普（二）：為什么28nm光刻機哪怕上多曝也做不到7nm？
    為什么28nm光刻機不能通過多曝工藝實現(xiàn)14nm，甚至7nm的光刻工藝？帶著這樣的問題，再經(jīng)過中國半導體圈最熱鬧大群“愛生活，愛芯片，賺大錢”里各位大佬的各種科普和深度探討，我感覺我自己的知識又增加了。反正咔嚓記下來不少，又是總之咔嚓不虧，最終咔嚓贏麻的一天！
    大型科普（二）：為什么28nm光刻機哪怕上多曝也做不到7nm？
  • 大型科普：多曝工藝究竟是如何超過光刻機的極限分辨率？
    這幾天隔壁有群友問了我一個非常專業(yè)的問題：多曝工藝是什么？它是如何跨過光刻機的極限分辨率實現(xiàn)更小制程的工藝？好問題，畢竟半導體工藝的問題專業(yè)是真的專業(yè)，真不是普通人能理解的，網(wǎng)上很多理解都是錯的。想要了解多曝工藝的問題，首先得了解這個知識點的前置知識，因此今天內(nèi)容分三段，第一、光刻設備分辨率是怎么來的？第二、晶體管的特征尺寸以及等效工藝的命名方式？第三、多曝工藝是什么，一共有哪幾種多曝工藝？？？
    大型科普：多曝工藝究竟是如何超過光刻機的極限分辨率？
  • Scanner為什么那么快？
    學員問：ASML的TWINSCAN XT系列的scanner機臺的WPH最高能達到300pcs，為什么Scanner的產(chǎn)能遠遠高于stepper？
  • ASML、NIKON、CANON光刻機型號參數(shù)匯總
    之前，我發(fā)布了一個ASML光刻機的型號參數(shù)的匯總列表。看起來大家對這個數(shù)據(jù)非常感興趣，實際的閱讀量遠超我最初的預估既然如此，那我就多發(fā)布一些數(shù)據(jù)吧。這次，我干脆把全球前道光刻機供應商御三家：ASML、NIKON、CANON的全部數(shù)據(jù)都一次性發(fā)布出來，供大家參考吧老粉絲應該或許還記得我以前也發(fā)布過這個數(shù)據(jù)。
    1.3萬
    2024/08/09
    ASML、NIKON、CANON光刻機型號參數(shù)匯總

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