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  • 碳化硅襯底的環(huán)吸方案相比其他吸附方案,對于測量碳化硅襯底 BOW/WARP 的影響
    在半導體領域,隨著碳化硅(SiC)材料因其卓越的電學性能、高熱導率等優(yōu)勢逐漸嶄露頭角,成為新一代功率器件、射頻器件等制造的熱門襯底選擇,對碳化硅襯底質量的精準把控愈發(fā)關鍵。其中,碳化硅襯底的 BOW(彎曲度)和 WARP(翹曲度)測量精度直接影響后續(xù)芯片加工工藝的良率與性能,而不同的吸附方案在這一測量過程中扮演著舉足輕重的角色,環(huán)吸方案更是以其獨特性與其他吸附方案形成鮮明對比,對測量結果產生著顯著
    碳化硅襯底的環(huán)吸方案相比其他吸附方案,對于測量碳化硅襯底 BOW/WARP 的影響

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