EUV

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極紫外輻射（EUV）或高能紫外輻射是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射，對應(yīng)光子能量為10eV到124eV。自然界中，日冕會產(chǎn)生EUV。人工EUV可由等離子源和同步輻射源得到。主要用途包括光電子譜，對日EUV成像望遠(yuǎn)鏡，光微影技術(shù)。 EUV是最易被空氣吸收的譜段，因此其傳輸環(huán)境需高度真空。

極紫外輻射（EUV）或高能紫外輻射是波長在124nm到10nm之間的電磁輻射，對應(yīng)光子能量為10eV到124eV。自然界中，日冕會產(chǎn)生EUV。人工EUV可由等離子源和同步輻射源得到。主要用途包括光電子譜，對日EUV成像望遠(yuǎn)鏡，光微影技術(shù)。 EUV是最易被空氣吸收的譜段，因此其傳輸環(huán)境需高度真空。收起

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  • ASML EUV光刻之路還能走多遠(yuǎn)？
    雖然近期臺積電高管表示，臺積電接下來的A16/A14制程都不會采用ASML售價高達(dá)4億美元的High NA EUV光刻機(jī)（具有0.5數(shù)值孔徑），但是英特爾則已經(jīng)決定在其下一代的Intel 14A制程上選擇采用High NA EUV光刻機(jī)進(jìn)行量產(chǎn)。與此同時，為了解決為了的1nm以下制程的制造問題，ASML正在積極的研發(fā)具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻機(jī)，這也意味著其將面臨更大的技術(shù)挑戰(zhàn)，要知道ASML花了約20年的時間才成功推動標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī)的規(guī)模商用。
    ASML EUV光刻之路還能走多遠(yuǎn)？
  • ASML發(fā)布2025年第一季度財報 | 凈銷售額77億歐元，凈利潤24億歐元
    阿斯麥（ASML）發(fā)布2025年第一季度財報。2025年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額77億歐元，毛利率為54%，凈利潤達(dá)24億歐元。第一季度的新增訂單金額為39億歐元2，其中12億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計2025年第二季度凈銷售額在72億至77億歐元之間，毛利率介于50%至53%3；對2025年展望保持不變，預(yù)計全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。 (
    ASML發(fā)布2025年第一季度財報 | 凈銷售額77億歐元，凈利潤24億歐元
  • TEL談半導(dǎo)體設(shè)備廠商的增長點(diǎn)
    作為一家已經(jīng)有超過60年歷史的老牌半導(dǎo)體設(shè)備廠商，TOKYO ELECTRON（簡稱TEL）在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的市場地位毋庸置疑，援引2023年的全球市場份額數(shù)據(jù)，TEL主打的十大支柱產(chǎn)品中，涂膠顯影設(shè)備的市場占有率為90%（其中配合EUV的涂膠顯影設(shè)備達(dá)到100%的市占率），干法刻蝕設(shè)備的占有率為22%，成膜設(shè)備為31%（其中原子層沉積設(shè)備為16%，化學(xué)氣相沉積設(shè)備為40%，氧化擴(kuò)散設(shè)備為40%）
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  • EUV新局，巨頭們的攻守之道
    如今，人工智能芯片的需求正以指數(shù)級速度瘋漲，可高昂的成本和復(fù)雜的工藝，讓這項技術(shù)淪為少數(shù)公司的 “專屬”。不過，轉(zhuǎn)機(jī)或許很快就會出現(xiàn)。為了給五花八門的人工智能應(yīng)用 “撐腰”，對先進(jìn)制程芯片的渴求一路狂飆，這給整個行業(yè)的供應(yīng)能力帶來了巨大壓力。不管是支撐大型語言模型的超大規(guī)模數(shù)據(jù)中心，還是智能手機(jī)、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備、自主系統(tǒng)里的邊緣人工智能，前沿半導(dǎo)體在各個應(yīng)用場景下的需求都在快速增長。但芯片制造嚴(yán)重依賴極紫外光刻（EUV）技術(shù)，該技術(shù)卻成為擴(kuò)大生產(chǎn)規(guī)模的關(guān)鍵阻礙。
    EUV新局，巨頭們的攻守之道
  • 光刻工藝中g(shù)線、i線、DUV、EUV是什么意思？
    不同波長的光源各自對應(yīng)不同的技術(shù)節(jié)點(diǎn)和制造需求。從早期的 g線、i線到目前主流的 KrF、ArF 再到最尖端的 EUV，每一次升級都展現(xiàn)了更高分辨率和更先進(jìn)的工藝水平。隨著對器件尺寸不斷逼近物理極限，EUV及其后續(xù)升級版本將持續(xù)發(fā)展。
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  • ASML CEO談半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、EUV、中美技術(shù)差距、AI以及分享工作經(jīng)驗
    Christophe Fouquet，ASML現(xiàn)任CEO，一個極其通透的人，一個優(yōu)秀的技術(shù)公司領(lǐng)袖，一個看穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)規(guī)律的行業(yè)專家。他說，謙遜是領(lǐng)導(dǎo)力第一要素；他說，當(dāng)你不再為證明自己而戰(zhàn)時，你就獲得了工作上的自由；他說，做決策時要冷靜，你可以根據(jù)自己的呼吸是否還平穩(wěn)來判定自己的情緒；他說現(xiàn)在的人們太聰明，很多人不知道活在當(dāng)下，enjoy your moment。
    ASML CEO談半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、EUV、中美技術(shù)差距、AI以及分享工作經(jīng)驗
  • ASML發(fā)布2024年全年財報 | 凈銷售額283億歐元，凈利潤76億歐元
    阿斯麥（ASML）發(fā)布2024年第四季度及全年財報。2024年第四季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額93億歐元，毛利率為51.7%，凈利潤達(dá)27億歐元。2024年第四季度的新增訂單金額為71億歐元2，其中30億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。2024年全年凈銷售額達(dá)283億歐元，毛利率為51.3%，凈利潤為76億歐元。ASML預(yù)計2025年第一季度凈銷售額在75億至80億歐元之間，毛利率介于52%至53%；202
    ASML發(fā)布2024年全年財報 | 凈銷售額283億歐元，凈利潤76億歐元
  • 2029年，半導(dǎo)體行業(yè)“奇點(diǎn)”來臨
    當(dāng)筆者在讀到美國發(fā)明家雷·庫茲韋爾（Ray Kurzweil）的著作《后人類》時，我意識到：“能力呈指數(shù)級提高的人工智能（AI）將在2045年惠及全人類?！?/div>
    2029年，半導(dǎo)體行業(yè)“奇點(diǎn)”來臨
  • EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
    EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中關(guān)鍵的元件之一，在集成電路的光刻過程中扮演著至關(guān)重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中，清洗掩膜版是一個不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復(fù)雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。
    EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
  • ASML在2024 年投資者日會議上就市場機(jī)遇提供最新看法有望在2030年內(nèi)實現(xiàn)營收和盈利的顯著增長
    在今日舉辦的2024 年投資者日會議上，ASML將更新其長期戰(zhàn)略以及全球市場和技術(shù)趨勢分析，確認(rèn)其到2030年的年收入將達(dá)到約440 億至 600 億歐元，毛利率約為56%至 60%。 ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示：“我們預(yù)計，在下一個十年我們有能力將EUV技術(shù)推向更高水平，并擴(kuò)展廣泛適用的全景光刻產(chǎn)品組合，使 ASML 能夠充分參與和抓住人工智能機(jī)遇

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