雖然近期臺積電高管表示,臺積電接下來的A16/A14制程都不會采用ASML售價高達4億美元的High NA EUV光刻機(具有0.5數(shù)值孔徑),但是英特爾則已經決定在其下一代的Intel 14A制程上選擇采用High NA EUV光刻機進行量產。與此同時,為了解決為了的1nm以下制程的制造問題,ASML正在積極的研發(fā)具有0.75NA的Hyper NA EUV光刻機,這也意味著其將面臨更大的技術挑戰(zhàn),要知道ASML花了約20年的時間才成功推動標準型EUV光刻機的規(guī)模商用。